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CONTACTLESS OPTICAL PROBE FOR USE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING METROLOGY

机译:用于半导体加工计量学的非接触式光学探头

摘要

A method and/or device (285) for determining first and second band offsets (100, 110) at a semiconductor/dielectric heterointerface (115), which includes the semiconductor/dielectric heterointerface (115) exposed to incident photons (205) from a light source (200); a detector (275, 280) for generating a signal by detecting emitted photons (260, 265) from the semiconductor/dielectric heterointerface (115); and an element (310) for changing the energy of incident photons (205) to monitor the first and second band offsets (100, 110).
机译:一种用于确定半导体/介电异质界面(115)处的第一和第二带偏移(100、110)的方法和/或设备(285),该方法和/或装置(285)包括半导体/介电异质界面(115)从半导体暴露于入射光子(205)光源(200);检测器(275、280),用于通过检测从半导体/介电异质界面(115)发出的光子(260、265)来产生信号;元件(310)用于改变入射光子(205)的能量以监测第一和第二带偏移(100、110)。

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