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JIG FOR ETCHING, AND APPARATUS AND METHOD FOR ETCHING

机译:治具夹具,装置和治具方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the destruction of an etched object held by a jig for etching even if the object is dipped in a high temperature etchant when etching the object using the jig for etching which holds the object, so that one surface of the flat etched object may face an airtight space and the other surface may be brought into contact with the etchant. ;SOLUTION: The jig for etching holds the flat etched object 20 so that one surface 22 may face an airtight space S and the other surface 21 may be brought into contact with an etchant 30. The volume of the airtight space can be changed.;COPYRIGHT: (C)2001,JPO
机译:解决的问题:即使在使用保持有物体的蚀刻夹具蚀刻物体时,即使将物体浸入高温蚀刻剂中,也要防止其破坏,以防止由蚀刻夹具保持的蚀刻物体的破坏。平坦的蚀刻物体可能面对气密空间,另一表面可能与蚀刻剂接触。 ;解决方案:用于蚀刻的夹具保持平坦的被蚀刻物体20,使得一个表面22可以面对气密空间S,而另一个表面21可以与蚀刻剂30接触。气密空间的体积可以改变。版权:(C)2001,日本特许厅

著录项

  • 公开/公告号JP2001185528A

    专利类型

  • 公开/公告日2001-07-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MINOLTA CO LTD;

    申请/专利号JP19990368923

  • 申请日1999-12-27

  • 分类号H01L21/306;H01L21/68;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-22 01:27:52

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