机译:用于形成绝缘屏蔽膜的精细颗粒的生产方法以及使用该方法获得的精细颗粒用于形成绝缘屏蔽膜的应用液体
公开/公告号JP2002265236A
专利类型
公开/公告日2002-09-18
原文格式PDF
申请/专利权人 SUMITOMO METAL MINING CO LTD;
申请/专利号JP20010060204
申请日2001-03-05
分类号C03C17/25;C09D5/32;C09D7/12;C09D201/00;G02B5/26;
国家 JP
入库时间 2022-08-22 01:00:41