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METHOD AND DEVICE FOR CONTROL OF THE DATA FLOW ON APPLICATION OF RETICLES IN A SEMICONDUCTOR COMPONENT PRODUCTION

机译:用于在半导体组件生产中使用掩模版的数据流的控制方法和装置

摘要

The invention relates to a method and a device for control of the data flow on application of reticles in a semiconductor component production, characterised in that the reticles each have a unique structured reticle data set, whereby the content of the reticle data set can be automatically altered and/or completed, depending on the production process for a semiconductor component. The application of reticles in a semiconductor component production can thus be efficiently controlled.
机译:本发明涉及一种用于在半导体部件生产中应用掩模版来控制数据流的方法和装置,其特征在于,每个掩模版具有唯一的结构化掩模版数据集,由此掩模版数据集的内容可以自动地进行。根据半导体组件的生产工艺进行更改和/或完成。因此,可以有效地控制掩模版在半导体部件生产中的应用。

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