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PROCESS FOR FORMING METALLIZED CONTACTS TO PERIPHERY TRANSISTORS

机译:与外围晶体管形成金属触点的过程

摘要

A process and apparatus directed to forming metal plugs (75,76,95,96) in a peripheral logic circuitry area of a semiconductor device to contact both N+ and P+ doped regions (25,26) of transistors in the peripheral logic circuitry area. The metal plugs are formed after all high temperature processing used in wafer fabrication is completed. The metal plugs are formed without metal diffusing into the active areas of the substrate. The metal plugs may form an oval slot as seen from a top down view of the semiconductor device.
机译:一种用于在半导体器件的外围逻辑电路区域中形成金属插头(75、76、95、96)以接触外围逻辑电路区域中的晶体管的N +和P +掺杂区域(25,26)的工艺和装置。在晶片制造中使用的所有高温处理完成之后,形成金属栓塞。在没有金属扩散到基板的有源区域中的情况下形成金属栓塞。从半导体器件的俯视图看,金属插头可以形成椭圆形的槽。

著录项

  • 公开/公告号WO03041127B1

    专利类型

  • 公开/公告日2004-05-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MICRON TECHNOLOGY INC.;

    申请/专利号WO2002US35425

  • 发明设计人 MCDANIEL TERRY;LANE RICHARD H.;

    申请日2002-11-06

  • 分类号H01L21/768;H01L21/8242;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-21 23:00:29

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