要解决的问题:提供一种方法的生产能力优异的方法,该方法能够形成纳米级的具有规则规则性的多孔结构。
解决方案:制备多孔结构的方法包括以下步骤:形成包含多孔结构形成材料的模制品的方法,所述多孔结构形成材料包含嵌段共聚物或接枝共聚物,所述嵌段共聚物或接枝共聚物各自具有主链被切断的聚合物链。能量射线和不可分解的聚合物链的辐射,以抵抗能量射线的辐射;通过退火在模制品中形成微相分离结构的方法;通过能量射线的照射,切断微相分离结构中的聚合物相的主链的工序。以及通过蚀刻形成包含残留的聚合物相的多孔结构,并选择性地去除具有被切断的主链的聚合物相的方法。
版权:(C)2005,JPO&NCIPI
公开/公告号JP2005008882A
专利类型
公开/公告日2005-01-13
原文格式PDF
申请/专利权人 TOSHIBA CORP;
申请/专利号JP20040168960
申请日2004-06-07
分类号C08J9/26;B01D69/08;G11B5/84;H01L21/3065;H01M2/16;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 22:36:07