首页> 外国专利> POLYSILICON BACK-GATED SOI MOSFET FOR DYNAMIC THRESHOLD VOLTAGE CONTROL

POLYSILICON BACK-GATED SOI MOSFET FOR DYNAMIC THRESHOLD VOLTAGE CONTROL

机译:用于动态阈值电压控制的多晶硅背栅SOI MOSFET

摘要

Insulator-on-silicon (SOI) method of forming a metal oxide semiconductor field effect transistor (MOSFET) device is provided. And a gate-SOI MOSFET device is a polysilicon-polysilicon rear end for controlling the threshold voltage of the gate-containing shear. The rear end in the SOI MOSFET devices - gate acts as a dynamic threshold voltage control system, This is because suitable for use during circuit / system active periods, and the circuit / system idle periods.
机译:提供了一种形成金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)器件的硅上绝缘体(SOI)方法。栅SOI MOSFET器件是用于控制含栅剪切的阈值电压的多晶硅-多晶硅后端。 SOI MOSFET器件的后端-栅极用作动态阈值电压控制系统,这是因为它适用于电路/系统有效期以及电路/系统空闲期。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号