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Composition for photoresist protective film, photoresist protective film and photoresist pattern formation process

机译：光刻胶保护膜用组合物，光刻胶保护膜和光刻胶图案形成方法

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摘要

A composition for a photoresist protective film comprising a fluoropolymer having at least one functional group selected from the group consisting of —COOH, —SO₃H, —OP(═O)(OH)₂, —NR₂and —N⁺R₃Cl⁻ (wherein R represents a C_1-4alkyl group) and having a weight average molecular weight Mw of from 1,000 to 100,000 and a solvent.

机译：用于光致抗蚀剂保护膜的组合物，其包含具有选自-COOH，-SO _{3 H，-OP（＝ O）（OH）_{2中的至少一个官能团的含氟聚合物。，-NR _{2 和-N ^{+ R _{3 Cl ^{-（其中R代表C重均分子量Mw为1,000至100,000的_{1-4 烷基和溶剂。}}}}}}}

著录项

公开/公告号US2006024613A1

专利类型
公开/公告日2006-02-02

原文格式PDF
申请/专利权人 NOBUYUKI OTOZAWA;TOYOMICHI SHIMADA;
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申请/专利号US20050192049
发明设计人 NOBUYUKI OTOZAWA;TOYOMICHI SHIMADA;
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申请日2005-07-29
分类号G03C1/76;
国家 US
入库时间 2022-08-21 21:43:36

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