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HU Fan-hua; 胡凡华; WANG Li-yuan; 王力元;
中国感光学会;
光刻胶; 化学增幅; 二乙烯基醚; 缩醛聚合物; 酸解活性; 成像性能;
机译:聚合物基体和光酸产生剂对化学增幅光刻胶平版印刷性能的影响
机译:用于化学增幅光刻胶的非离子型光致产酸剂的评估
机译:新型酯缩醛聚合物及其在正化学放大i线光刻胶中的应用
机译:用于化学增幅光刻胶的非离子型光致产酸剂:结构对光刻胶性能的影响
机译:聚合物系统的原位和在线表征:聚合物复合材料的固化监控和化学放大光刻胶的光谱研究
机译:基于功能化mPEG-PCL双嵌段聚合物的缩醛连接的紫杉醇聚合物前药,用于pH触发的药物递送
机译:正光刻胶紫外光照射下光化学分解的研究
机译:远(深)紫外高强度激光(准分子)辐射脉冲在聚合物中的孔形成(蚀刻)及其与聚合物深紫外光解中光刻胶的相关性
机译:用于化学增幅型光致抗蚀剂的聚合物,一种化学增幅型光致抗蚀剂组合物及其制备方法
机译:化学增幅型光致抗蚀剂的光敏聚合物和化学增幅型光致抗蚀剂组合物
机译:化学增幅型抗蚀剂和光化学增幅型抗蚀剂组合物的光敏聚合物
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