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光刻胶保护膜用组合物、光刻胶保护膜及光刻胶图形形成方法

摘要

提供能够适用于湿浸式刻蚀工艺的光刻胶保护膜、能够形成该保护膜的光刻胶保护膜用组合物、使用该光刻胶保护膜的光刻胶图形形成方法。该光刻胶保护膜用组合物含有含氟聚合物和溶剂(水、醇或含氟溶剂),上述含氟聚合物具有选自-COOH、-SO

著录项

  • 公开/公告号CN1727995A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2006-02-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 旭硝子株式会社;

    申请/专利号CN200510088468.1

  • 发明设计人 音泽信行;岛田丰通;

    申请日2005-07-28

  • 分类号G03F7/00;G03F7/11;G03F7/09;

  • 代理机构上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人沙永生

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2023-12-17 16:59:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2008-04-09

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2006-02-01

    公开

    公开

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