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公开/公告号CN1727995A
专利类型发明专利
公开/公告日2006-02-01
原文格式PDF
申请/专利权人 旭硝子株式会社;
申请/专利号CN200510088468.1
发明设计人 音泽信行;岛田丰通;
申请日2005-07-28
分类号G03F7/00;G03F7/11;G03F7/09;
代理机构上海专利商标事务所有限公司;
代理人沙永生
地址 日本东京
入库时间 2023-12-17 16:59:29
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2008-04-09
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-02-01
公开
机译: 光刻胶保护膜用组合物,光刻胶保护膜和光刻胶图案形成方法
机译: 光刻胶保护膜组合物
机译:用于亚微米图形光刻的氧化物光刻胶膜的物理性质
机译:SU-8光刻胶中的体积全息图形成
机译:热化距离对使用化学放大的极紫外光刻胶制作7纳米半节距线距图形的随机现象的影响
机译:光刻胶烘烤对厚光刻胶图形质量的影响
机译:聚合物系统的原位和在线表征:聚合物复合材料的固化监控和化学放大光刻胶的光谱研究
机译:远(深)紫外高强度激光(准分子)辐射脉冲在聚合物中的孔形成(蚀刻)及其与聚合物深紫外光解中光刻胶的相关性