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Fixed abrasive polishing pad, method of preparing the same, and chemical mechanical polishing apparatus including the same

机译:固定式研磨垫,其制备方法以及包括该研磨垫的化学机械抛光设备

摘要

A fixed abrasive polishing pad includes a base and a plurality of polishing layers on the base, wherein each polishing layer includes abrasive particles and apertures in a polishing surface of the polishing layer.
机译:固定的磨料抛光垫包括基底和在基底上的多个抛光层,其中每个抛光层包括研磨剂颗粒和在抛光层的抛光表面上的孔。

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