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机译:固定式研磨垫,其制备方法以及包括该研磨垫的化学机械抛光设备
公开/公告号US2007128991A1
专利类型
公开/公告日2007-06-07
原文格式PDF
申请/专利权人 IL-YOUNG YOON;HONG-JAE SHIN;SE-YOUNG LEE;JAE-OUK CHOO;JA-EUNG KOO;
申请/专利号US20060634195
发明设计人 IL-YOUNG YOON;JAE-OUK CHOO;JA-EUNG KOO;SE-YOUNG LEE;HONG-JAE SHIN;
申请日2006-12-06
分类号B24B1/00;B24B29/00;
国家 US
入库时间 2022-08-21 21:02:16
机译: 用于具有固定研磨垫的化学机械抛光的钨层化学机械抛光溶液以及使用固定研磨垫的钨化学机械抛光方法
机译: 固定磨料抛光垫,其制备方法以及包括该抛光垫的化学机械抛光
机译: 固定式磨料抛光垫,其制备方法以及包括其的化学机械抛光