首页> 外国专利> METHOD FOR GROWING SINGLE CRYSTAL BY GERMANY OTF

METHOD FOR GROWING SINGLE CRYSTAL BY GERMANY OTF

机译:德国OTF种植单晶的方法

摘要

1.method u0432u044bu0440u0430u0449u0438u0432u0430u043du0438u00a0 u043cu043eu043du043eu043au0440u0438u0441u0442u0430u043bu043bu043eu0432 u0433u0435u0440u043cu0430u043du0438u00a0 u043eu0442u0444 method, including the use of free, with equal inner diameter u0442u0438u0433u043bu00a0, u0442u0438u0433u043bu00a0 of material not in the u0437u0430u0438u043cu043eu0434u0435u0439u0441u0442u0432u0443u044eu0449u0435u0433u043e with u0440u0430u0441u043fu043bu0430u0432u043eu043c and steeped in the steel twin u043du0430u0433u0440u0435u0432u0430u0442u0435u043bu00a0 (u043eu0442u0444 heater)organized by u043fu0435u0440u0435u043cu0435u0449u0435u043du0438u00a0 u0442u0438u0433u043bu00a0 with u0437u0430u0442u0440u0430u0432u043au043eu0439 and growing crystal in cold zone in the furnace on the installation u043eu0442u0444 u043du0430u0433u0440u0435u0432u0430u0442u0435u043bu00a0, supp. u0435u0440u0436u0438u0432u0430u0435u043cu043eu0433u043e in u043fu043eu0441u0442u043eu00a0u043du043du043eu0439 temperature and u0438u0441u043fu043eu043bu044cu0437u0443u00a0 separate doping zones w1 and w2, u043eu0442u043bu0438u0447u0430u044eu0449u0435u0435u0441u00a0 what to u043fu043eu0432u044bu0448u0435u043du0438u00a0 macro and micro uniformity and percentage and the growth of crystals are u0433u0435u0440u043cu0430u043du0438u00a0 diameters up to 3 inches.the form of the crystallization are simultaneously u0434u0432u0443u0445u0441u0435u043au0446u0438u043eu043du043du044bu043c background u043eu0442u0444 heater and heater, and the temperature of the crystal u0432u044bu0442u00a0u0433u0438u0432u0430u043du0438u00a0 on the u0442u0438u0433u043bu00a0 t4 (t) u0443u043cu0435u043du044cu0448u0430u0435u0442u0441u00a0 in accordance with the law: t4 (t) = T40 - at, where u044240 primary temperature, a = v (pgradTp + q) / cd, v is the speed of u0432u044bu0442u00a0u0433u0438u0432u0430u043du0438u00a0 crystal, r - u0442u0435u043fu043bu043eu043fu0440u043eu0432u043eu0434u043du043e ism. melt u0433u0435u0440u043cu0430u043du0438u00a0,gradTp axis gradient of temperature in the u0440u0430u0441u043fu043bu0430u0432u0435 which u0445u043eu0442u00a0u0442 raise q of crystal, crystallization, crystal u0433u0435u0440u043cu0430u043du0438u00a0 cd with high thermal conductivity temperature, the value of h u043du0430u043au043bu0430u0434u044bu0432u0430u0435u0442u0441u00a0 condition 0,3D h , d is the diameter of the u043eu0442u0444 u043du0430u0433u0440u0435u0432u0430u0442u0435u043bu00a0, and the ratio of the initial concentrations in areas w1 and w2: c1 (u0434u043bu00a0 zone w1) and c2 (u0434u043bu00a0 z ona w1) u0443u0434u043eu0432u043bu0435u0442u0432u043eu0440u00a0u0435u0442 condition c1 = c2 / kwhere k is an equilibrium segregation coefficient u0434u043bu00a0 used u043bu0435u0433u0438u0440u0443u044eu0449u0435u0439 impurities.;2. method for u043eu0442u043bu0438u0447u0430u044eu0449u0438u0439u0441u00a0 1, so that the growth of crystals u0433u0435u0440u043cu0430u043du0438u00a0 in u043au0440u0438u0441u0442u0430u043bu043bu043eu0433u0440u0430u0444u0438u0447u0435u0441u043au0438u0445 u043du0430u043fu0440u0430u0432u043bu0435u043du0438u00a0u0445 [111] and [100] having a diameter of 40 to 51 mm, alloy u0441u0443u0440u044cu043cu043eu0439 and u0433u0430u043bu043bu0438u0435u043c lead u0433u0440u0430u0444u0438u0442u043eu0432u043eu043c mould with u0441u043au043eu0440u043eu0441u0442u00a0u043cu0438 u0432u044bu0442u00a0u0433u0438u0432u0430u043du0438u00a0 in the range of 5 to 20 mm / hour with the thickness u0441u043bu043eu00a0 melt in the range of 8 to 15 mm.;3. method for u043eu0442u043bu0438u0447u0430u044eu0449u0438u0439u0441u00a0 1, so that the growth of crystals u0433u0435u0440u043cu0430u043du0438u00a0 in u043au0440u0438u0441u0442u0430u043bu043bu043eu0433u0440u0430u0444u0438u0447u0435u0441u043au0438u0445 u043du0430u043fu0440u0430u0432u043bu0435u043du0438u00a0u0445 [111] and [100] of 52 to 76 mm alloy u0441u0443u0440u044cu043cu043eu0439 and u0433u0430u043bu043bu0438u0435u043c lead u0433u0440u0430u0444u0438u0442u043eu0432u043eu043c mould with u0441u043au043eu0440u043eu0441u0442u00a0u043cu0438 u0432u044bu0442u00a0u0433u0438u0432u0430u043du0438u00a0 in the range of 5 to 20 mm / hour with the thickness u0441u043bu043eu00a0 melt in the range of 10 to 20 mm.;4. method for u043eu0442u043bu0438u0447u0430u044eu0449u0438u0439u0441u00a0 1, so that the growth of crystals u0433u0435u0440u043cu0430u043du0438u00a0 diameter 76 mm lead to temperature difference t2 - t1, 0 to 2c, and the difference between the temperatures t2, t3 is in a range of 2 to 10u0441.;5. method for u043eu0442u043bu0438u0447u0430u044eu0449u0438u0439u0441u00a0 1, so that the growth of crystals u0433u0435u0440u043cu0430u043du0438u00a0 in u043au0440u0438u0441u0442u0430u043bu043bu043eu0433u0440u0430u0444u0438u0447u0435u0441u043au0438u0445 u043du0430u043fu0440u0430u0432u043bu0435u043du0438u00a0u0445 [111] and [100] diameter 76 mm alloy u0441u0443u0440u044cu043cu043eu0439 and u0433u0430u043bu043bu0438u0435u043c lead p ri temperature gradient in the u0440u0430u0441u043fu043bu0430u0432u0435 range gradTp = 5 - 35u0441 / cm.
机译:1.方法 u0432 u044b u0440 u0430 u0449 u0438 u0432 u0430 u043d u043d u043d u00a0 u043c u043e u043d u043d u043e u043a u0440 u0438 u0441 u0442 u0430 u043b u043b u043e u0432 u0433 u0435 u0440 u043c u0430 u043d u0438 u00a0 u043e u0442 u0444方法,包括使用免费的,具有相同内径 u0442 u0438 u0433 u0433 u043b u00a0, u0442 u0438 u0433 u043b u00a0不在 u0437 u0430 u0438 u043c u043e u0434 u0435 u0439 u0441 u0442 u0432 u0443 u044e u044e u0449 u0435 u0433 u043e中的 u0440 u0430 u0441 u043f u043b u0430 u0432 u043e u043c并浸入钢双胞胎 u043d u0430 u0433 u0440 u0435 u0432 u0430 u0442 u0435 u043b u00b0( u043e u0442 u0444加热器)由 u043f u0435 u0440 u0435 u043c u0435 u0449 u0435 u043d u0438 u00a0 u0442 u0438 u0433 u043b u00a0和 u0437 u0430 u0442 u0440 u0430 u043a u043e u0439并在设备上的炉子中的寒冷区域中生长晶体 u043e u0442 u0444 u043d u0430 u0433 u0440 u0435 u0432 u0430 u0442 u0435 u043b u00a0,同上。 u043f u043e u0441 u0442 u0432 u043e中的 u0435 u0440 u0436 u0438 u0432 u04330 u0435 u043c u043e u043e u0433 u043e u043e u043f u043e u043b u044c u0437 u0443 u00a0单独的掺杂区w1和w2, u043e u0442 u043b u0438 u0447 u0430 u044e u0449 u0435 u0435 u0435 u0441 u00a0对 u043f u043的内容 u0432 u044b u0448 u0435 u043d u0438 u00a0晶体的宏观和微观均匀性和百分比以及直径的增长为 u0433 u0435 u0440 u043c u0430 u043d u0438 u00438 u00a0的直径最大为3英寸。同时结晶的是 u0434 u0432 u0443 u0445 u0441 u0435 u043a u0446 u0438 u043e u043d u043d u044b u043c背景和u043e u0442 u0444加热器和加热器以及晶体的温度 u0442 u0438 u0433 u043b u00b0 u4a上的 u0432 u044b u0442 u00a0 u0433 u0438 u0432 u0430 u043d u0438 u00a0 u0430 u0435 u0442 u0441 u00a0符合以下定律:t4(t)= T40-在,其中, a = v(pgradTp + q) / cd,v是 u0432 u044b u0442 u00a0 u0433 u0438 u0432 u0430 u043d u0438 u00a0晶体的速度,r- u0442 u0435 u043f u043b u043e u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u043d u043e ism。熔体 u0433 u0435 u0440 u043c u0430 u043d u0438 u00a0,grad u0440 u0430 u0441 u043f u043b u0430 u0432 u0435其中 u0445 u043e u0442 u0000 u0442提高晶体的q,结晶度,晶体 u0433 u0435 u0440 u043c u0430 u043d u0438 u00a0 cd具有高的导热率温度,h的值 u043d u0430 u043a u043b u043b u0430 u0434 u044b u0432 u0430 u0435 u0442 u0441 u00a0条件0,3D h <,d是 u043e u0442 u0444 u043d u0430 u0433 u0440 u0435 u0435 u0432 u0430 u0442 u0435的直径 u043b u00a0,以及区域w1和w2中初始浓度的比率:c1( u0434 u043b u00a0区域w1)和c2( u0434 u043b u00a0 z ona w1) u0443 u0434 u043e u0432 u043b u0435 u0442 u0432 u043e u0440 u00a0 u0435 u0442条件c1 = c2 / k其中k是使用的平衡偏析系数 u0434 u043b u00a0 u043b u0435 u0433 u0438 u0440 u0443 u044e u0449 u0435 u0439杂质; 2。 u043e u0442 u043b u0438 u0447 u0430 u044e u0449 u0438 u0439 u0441 u00a0 1的方法,这样晶体的生长 u0433 u0435 u0440 u043c u0430 u043d u0438 u00a0在 u043a u0440 u0438 u0441 u0442 u0430 u043b u043b u043b u043e u0433 u043 u0440 u0430 u0444 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0438 u0445 u043d u0430 u043f u0440 u0430 u0432 u043b u0435 u043d u0438 u00a0 u0445 [111]和[100]的直径为40至51毫米,合金 u0441 u0443 u0440 u044c u043c u043e u0439和 u0433 u0430 u043b u043b u0438 u0435 u043c引线 u0433 u0440 u0430 u0444 u0438 u0442 u043e u0432 u043e u043e具有u0441 u043a u043e u043e u0440 u043e u0441 u0442 u0442的模具 u043c u0438 u0432 u044b u0442 u00a0 u0433 u0438 u0432 u0430 u043d u0438 u00a0在5到20毫米 /小时的范围内,厚度为 u0441 u043b u043e u00a0 8至15毫米的范围; 3。 u043e u0442 u043b u0438 u0447 u0430 u044e u0449 u0438 u0439 u0441 u00a0 1的方法,这样晶体的生长 u0433 u0435 u0440 u043c u0430 u043d u0438 u00a0在 u043a u0440 u0438 u0441 u0442 u0430 u043b u043b u043b u043e u0433 u043 u0440 u0430 u0444 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0438 u0445 u043d u0430 u043f u0440 u0430 u0432 u043b u0435 u043d u0438 u00a0 u0445和52至76毫米合金的[100] u0441 u0443 u0440 u044c u043c u043e u0439和 u0433 u0430 u043b u043b u0438 u0435 u043c引线 u0433 u0440 u0430 u0444 u0438 u0442 u043e u0432 u043e u043c模具带有 u0441 u043a u043e u0440 u043e u0441 u0442 u00a0 u043c u0432 u044b u0442 u00a0 u0433 u0438 u0432 u0430 u043d u0438 u00a0的范围为5到20毫米/小时,厚度为 u0441 u043b u043e u00a0的熔化范围为10至20毫米; 4。 u043e u0442 u043b u0438 u0447 u0430 u044e u0449 u0438 u0439 u0441 u00a0 1的方法,从而使直径为76 mm的晶体的生长导致温度差t2-t1,从0到2c,并且温度t2,t3之间的差为a 2至10 u0441。; 5。 u043e u0442 u043b u0438 u0447 u0430 u044e u0449 u0438 u0439 u0441 u00a0 1的方法,这样晶体的生长 u0433 u0435 u0440 u043c u0430 u043d u0438 u00a0在 u043a u0440 u0438 u0441 u0442 u0430 u043b u043b u043b u043e u0433 u043 u0440 u0430 u0444 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0438 u0445 u043d u0430 u043f u0440 u0430 u0432 u043b u0435 u043d u0438 u00a0 u0445 [111]和[100]直径76毫米合金 u0441 u0443 u0440 u044c u043c u043e u0439和 u0433 u0430 u043b u043b u043b u0438 u0435 u043c超前温度梯度位于 u0440 u0430 u0441 u043f u043b u0430 u0432 u0435范围gradTp = 5-35 u0441 / cm。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号