要解决的问题:提供一种半透明电磁波屏蔽膜,该半透明电磁波屏蔽膜形成同时显示出高EMI屏蔽性和高透明性的电磁波屏蔽材料的细线图案,并且可以用于廉价的批量生产的半透明电磁波屏蔽中电影。
解决方案:在具有导电金属部分和透光部分的半透明电磁波屏蔽膜中,将包含卤化银和粘合剂的卤化银含有层作为光敏元件暴露在塑料膜上,金属银部分被暴露并且通过显影和固定形成透光部分(透光部分基本上没有物理显影核),并且还通过进行物理显影和/或形成在金属银部分带有导电金属颗粒的导电金属部分。或电镀金属银部分,其中卤化银掺杂有铑离子或铱离子,其平均粒径为0.1-1,000 nm,其显影使用含有图像质量改进剂的显影剂进行,显影后为灰度超过4.0时,透光性电磁波屏蔽屏蔽膜的表面电阻为2.5 / sq以下在物理显影和/或电镀之后,导电金属部分的线宽为20m或更小。
版权:(C)2009,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP2009124181A
专利类型
公开/公告日2009-06-04
原文格式PDF
申请/专利权人 FUJIFILM CORP;
申请/专利号JP20090051492
申请日2009-03-05
分类号H05K9;G09F9;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 19:40:55