要解决的问题:提供:一种形成纳米点的方法;一种制造包括纳米点的存储器件的方法;包括纳米点的电荷陷阱层;包括电荷陷阱的存储装置。
解决方案:形成纳米点的方法包括第一步,形成核,第二步,用聚合物涂覆核的表面,第三步,通过热形成覆盖核表面的石墨烯层。处理涂覆有聚合物的芯。第三步后可以将芯子取出。在用聚合物涂覆核的表面之前,可以用石墨化催化剂材料涂覆核的表面。而且,芯包含电荷陷阱和具有充当石墨化催化剂功能的金属颗粒,或者可以包含具有电荷陷阱功能的金属颗粒。
版权:(C)2009,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP2009099982A
专利类型
公开/公告日2009-05-07
原文格式PDF
申请/专利权人 SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD;
申请/专利号JP20080262228
申请日2008-10-08
分类号H01L21/8247;H01L29/788;H01L29/792;H01L27/115;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 19:39:31