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WAFER PROCESSING DEVICE INCLUDING A WAFER ALIGNMENT DEVICE, PREVENTING THE DECREASE OF A WAFER HANDLING DEVICE

机译:晶片处理设备,包括晶片对准设备,防止晶片处理设备的减少

摘要

PURPOSE: A wafer processing device including a wafer alignment device is provided to detect and correct the wafer deviation and remove high speed sampling of the pulses from an output signal of the photo sensor or handing device.;CONSTITUTION: At least one wafer processing chamber is connected to a wafer handing chamber. A wafer handling device(1) loads a wafer(33) inside the wafer processing chamber. The wafer handling device is positioned inside the wafer handling chamber. At least one first photo sensor(31) is positioned inside the wafer handing chamber in front of the wafer processing chamber. At least one second photo sensor is positioned inside the wafer handling chamber in front of the wafer processing chamber. The wafer handing device includes an end effector for positioning the wafer.;COPYRIGHT KIPO 2010
机译:目的:提供一种包括晶片对准装置的晶片处理装置,以检测并校正晶片偏差并从光传感器或处理装置的输出信号中去除脉冲的高速采样。;组成:至少一个晶片处理室为连接到晶片处理室。晶片处理装置(1)在晶片处理室内装载晶片(33)。晶片处理装置位于晶片处理室内。至少一个第一光电传感器(31)位于晶片处理室内的晶片处理室之前。至少一个第二光电传感器位于晶片处理室内部的晶片处理室的前面。晶圆搬运设备包括用于定位晶圆的末端执行器。; COPYRIGHT KIPO 2010

著录项

  • 公开/公告号KR20090105819A

    专利类型

  • 公开/公告日2009-10-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASM JAPAN K.K.;

    申请/专利号KR20090023548

  • 申请日2009-03-19

  • 分类号H01L21/677;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 19:12:28

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