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Sic - a semiconductor device with schottky - blocking layer diode

机译:SiC-具有肖特基二极管的半导体器件-阻挡层二极管

摘要

A semiconductor device with a blocking layer - schottky diode has: a sic - substrate (1) of a first conductivity type; a drift layer (2) on said substrate; an insulating film (3) on the drift layer with an opening (3a) in a cell area; a schottky - blocking layer diode (10) with a schottky - electrode (4), which via the opening of the insulating film to the drift layer, and an ohmic electrode (5) on said substrate; a finishing structure (6, 7) with a the cell area surrounding resurf - layer (6); and a plurality of layers (8) of a second conductivity type on an inner side of the resurf - layer. The layers of the second conductivity type and the drift layer form a p - n - diode. The schottky - electrode has a first schottky - electrode (4a) which, with an ohmic contact to the layers of the second conductivity type, and a second schottky - electrode (4b) which, with a schottky - contact with the drift layer is adjacent.
机译:具有阻挡层-肖特基二极管的半导体器件具有:第一导电类型的SiC衬底(1);以及所述第一导电类型的SiC衬底。在所述基板上的漂移层(2);在漂移层上的绝缘膜(3)在单元区域中具有开口(3a);肖特基阻挡层二极管(10),其具有肖特基电极(4)和欧姆电极(5),所述肖特基电极(4)经由所述绝缘膜的开口到达所述漂移层。具有围绕resurf-层(6)的单元区域的精整结构(6、7);在该表面层的内侧上具有第二导电类型的多个层(8)。第二导电类型的层和漂移层形成p-n-二极管。肖特基电极具有第一肖特基电极(4a),其与第二导电类型的层欧姆接触;以及第二肖特基电极(4b),其与漂移层接触。 。

著录项

  • 公开/公告号DE102008021430A1

    专利类型

  • 公开/公告日2008-11-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号DE20081021430

  • 发明设计人

    申请日2008-04-29

  • 分类号H01L29/872;H01L29/47;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 19:09:08

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