要解决的问题:提供一种多灰度级光掩模,其中可以适当地校正由半透明膜制成的半透明部分中产生的缺陷。
解决方案:所述多灰度级光掩模具有在透明基板上形成的具有遮光部,透光部和透光部的转印图案,并在其上形成具有两个或多个不同的抗蚀剂残留膜值的抗蚀剂图案。待转印物体上的抗蚀剂膜。在多灰度级光掩模中,遮光部是通过在透明基板上形成遮光膜而形成的,透光部是通过使透明基板曝光而形成的,透光部具有由透光膜形成的法线部。透明基板和形成在透明基板上的由校正膜制成的校正部,并且在透光部和校正部中,相对于波长线i线至g线的相位差为80以下。
版权:(C)2010,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP2010198006A
专利类型
公开/公告日2010-09-09
原文格式PDF
申请/专利权人 HOYA CORP;
申请/专利号JP20100013914
发明设计人 SAKAMOTO YUJI;
申请日2010-01-26
分类号G03F1/08;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 19:03:44