要解决的问题:无论转印图案的形状如何,均化在遮光膜的平面内的蚀刻速率,提高多级光掩模的质量,并提高生产率。
解决方案:所述多灰度级光掩模具有预定的转印图案,所述预定的转印图案包括在透明基板上形成的遮光部,透光部和半透明部,其中所述遮光部包括具有导电性的蚀刻平衡膜。在透明基板上依次层叠有透光膜和遮光膜,透光部包括在透明基板上依次层叠的蚀刻平衡膜和透光膜,透光部包括露出部。透明基板的厚度。
版权:(C)2011,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP2011048353A
专利类型
公开/公告日2011-03-10
原文格式PDF
申请/专利权人 HOYA CORP;
申请/专利号JP20100168385
申请日2010-07-27
分类号G03F1/08;G02F1/1368;H01L21/3065;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 18:22:10