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POLYSILAZANE, METHOD OF SYNTHESIZING POLYSILAZANE, COMPOSITION FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE COMPOSITION

机译:聚硅氮烷,聚硅氮烷的合成方法,用于制造半导体装置的组合物以及使用该组合物制造半导体装置的方法

摘要

Disclosed are polysilazane, a method of synthesizing the polysilazane, a composition for manufacturing a semiconductor device, and a method of manufacturing a semiconductor device using the composition. The polysilazane is synthesized through a reaction, under a catalyst, between dichlorosilane, trichlorosilane, and ammonia added in a reaction solvent as a reactant. In this instance, a polystyrene conversion weight average molecular weight of the polysilazane is about 2,000 to 30,000.
机译:公开了聚硅氮烷,合成聚硅氮烷的方法,用于制造半导体器件的组合物以及使用该组合物制造半导体器件的方法。聚硅氮烷通过在催化剂下在二氯硅烷,三氯硅烷和作为反应物添加到反应溶剂中的氨之间的反应来合成。在这种情况下,聚硅氮烷的聚苯乙烯转化重均分子量为约2,000至30,000。

著录项

  • 公开/公告号US2010112749A1

    专利类型

  • 公开/公告日2010-05-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 JOO HYEON PARK;YONG CHANG;

    申请/专利号US20090415309

  • 发明设计人 JOO HYEON PARK;YONG CHANG;

    申请日2009-03-31

  • 分类号H01L51/30;C08G77/12;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 18:51:58

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