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1.
Wafer-based APC – Getting There One Step at a Time
机译:
基于晶圆的APC –一次实现一步
作者:
Jim Hollister
;
Paul McGuire
;
Alan Weber
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
2.
'Advancements in Verifying Data Quality for APC'
机译:
“验证APC数据质量的进步”
作者:
James Moyne
;
Keith Peden
;
Brad Van Eck
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
3.
STABILITY AND PERFORMANCEANALYSES OF COMMON MOVINGAVERAGE APPROACHES TO RUNTO-RUN CONTROL
机译:
连续运行惯性平均方法的稳定性和性能分析
作者:
JAMES A. MULLINS
;
JIANPING ZOU
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
4.
Comparison and Analysis of Different Removal Rate Models in Run-to-Run control of the Oxide CMP process
机译:
氧化物CMP工艺运行控制中不同去除率模型的比较和分析
作者:
Jin Wang
;
Christopher Bode
;
Matthew Ryskoski
;
Sharon Yeh
会议名称:
《》
|
2003年
5.
Fault Detection on Measurement Patterns
机译:
测量模式的故障检测
作者:
Francois Pasqualini
;
John C. Arnold
;
Herve Buclon
;
rnJean DeCaunes
;
Joost van Herk
;
Daniel Boutin
;
rnCecilia Bendix
;
Alain Deleporte
;
Jean-Claude Royer
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
6.
E-beam Advanced Process Control
机译:
电子束高级过程控制
作者:
Cheng I Sun
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
7.
An ITRS View on Future Process Control Challenges and Opportunities
机译:
ITRS对未来过程控制挑战和机遇的看法
作者:
Jeff Pettinato
;
Ray Bunkofske
;
Richard Oechsner
;
Lisa Pivin
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
8.
Run-to-Run Control of the Gate Etch Trim Process
机译:
门刻蚀修剪过程的运行到运行控制
作者:
Balakrishnan K. S.
;
Michael Neel
;
Jason Underwood
;
Karen Finn
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
9.
A Comprehensive Predictive Failure Analysis System
机译:
全面的预测故障分析系统
作者:
Rob Firmin
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
10.
Cu Interconnect Sheet Resistance Enhancement By Advanced Process Control
机译:
通过先进的工艺控制提高铜互连的薄层电阻
作者:
June-Shien Lin
;
Sunny Wu
;
Hung-Yeh Lee
;
Francis Ko
;
Henry Lo
;
Mei-Sheng Zhou
;
Mong-Song Liang
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
关键词:
Advanced Process Control (APC);
feedforward-feedback;
Sheet Resistance ( Rs );
11.
Fast Gas Detection/Monitoring and Data Feedback: Optical Techniques Applied inReal-time and On-line Sensing of Semiconductor End-point Processing and Smart
机译:
快速气体检测/监测和数据反馈:光学技术应用于半导体端点处理和智能的实时和在线传感
作者:
Curtis T. Laush
;
Reginald Hunter
;
Thomas Huang
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
12.
Lithography Process Control at Intel
机译:
英特尔光刻工艺控制
作者:
Chris Maloney
;
Vince Pagano
;
Mani Janakiram
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
13.
Defect Fault Detection for Process Control UsingSpatial Pattern Analysis Algorithms
机译:
空间模式分析算法的过程控制缺陷故障检测
作者:
Yen-Chin Huang
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
14.
Value of Run-to-Run Applications Based on Process Automation and Simplification
机译:
基于流程自动化和简化的运行对应用程序的价值
作者:
Ernest Adams
;
Matthew Purdy
;
Matthew Ryskoski
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
15.
Requirements of a Modern Statistical Process Control System
机译:
现代统计过程控制系统的要求
作者:
Raymond Bunkofske
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
16.
Monitoring Etch Tool Health Using Weighted PCA
机译:
使用加权PCA监控蚀刻工具的运行状况
作者:
H. Henry Yue
;
Robbie Lam
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
17.
Considerations in Deploying Wafer-Level Control acrossthe Fab
机译:
跨晶圆厂部署晶圆级控制的注意事项
作者:
Nital S. Patel
;
Mike Anderson
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
18.
Virtual Fab Environment for the Development and Evaluation of Copper CMP Run-to-Run Control Algorithms
机译:
用于开发和评估铜CMP批量控制算法的虚拟Fab环境
作者:
Scott Runnels
;
Thomas Laursen
会议名称:
《》
|
2003年
19.
Real Time Profile Control (RTPC) In Copper CMP Process
机译:
铜CMP工艺中的实时轮廓控制(RTPC)
作者:
Manush Birang
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
20.
A Step-by-Step FDC Modeling Approach applied toHDP CVD deposition process
机译:
应用于HDP CVD沉积工艺的分步FDC建模方法
作者:
M. Zagrebnov
;
F. Martin
;
C. Fraysse
;
M. Debasc
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
21.
E-diagnostics: The Value Proposition
机译:
电子诊断:价值主张
作者:
Bill Ramus
;
Jim Neroda
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
22.
Effect of Out of Order Measurements in Process Control
机译:
乱序测量在过程控制中的作用
作者:
Courtney K. Hanish
;
Courtney K. Hanish
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
23.
Overview of Advanced Process Control Framework at Intel
机译:
英特尔高级过程控制框架概述
作者:
Neal Jing
;
Carrie Auyeung
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
24.
Using e-Manufacturing to Improve Fab Productivity
机译:
使用电子制造提高工厂生产率
作者:
Harvey Wohlwend
;
Brad Van Eck
会议名称:
《》
|
2003年
25.
Development and implementation results of anadvanced CMP run-to-run controller
机译:
先进的CMP运行到运行控制器的开发和实施结果
作者:
Steve Toy
;
Hector Luna
;
Mark Bedrin
;
Anthony J. Toprac
;
W. Jarrett Campbell
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
26.
AVAILABILITY ADJUSTMENTS ON DOMINANT X-FACTORCONTRIBUTION MACHINES FOR IMPROVING PERFORMANCE
机译:
改进性能的主要X因子贡献机的可用性调整
作者:
Deana R. Delp
;
J. Si
;
Y. Hwang
;
B. Pei
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
关键词:
X-factor;
bottleneck;
availability;
optimization;
27.
Accounting for Non-Lithography Effects in WaferRegistration Analysis and Control
机译:
晶圆配准分析和控制中非光刻效应的核算
作者:
Frank Goodwin
;
Igor Jekauc
;
Sean Louks
;
Cort Demmert
;
Nicholas Louka
;
rnChris Gould
;
Maik Adam
;
Torsten Werneke
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
28.
Benefits of using Web based Technology for Data collection andProcess Control
机译:
使用基于Web的技术进行数据收集和过程控制的好处
作者:
Gino Crispieri
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
29.
Facilitating In-Situ Sensor Integration with OEM Tool and APCsystems using SEMI Sensor Bus
机译:
使用SEMI传感器总线促进与OEM工具和APCsystem的原位传感器集成
作者:
Dhairya Shrivastava
;
Niraj Vaghela
;
Scott Kerner
;
John Conway
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
30.
Dynamic Update Scheme for a Real-time Adaptive Process Modeling
机译:
实时自适应过程建模的动态更新方案
作者:
An Cao
;
Wai Chan
;
Jill Card
;
William Martin
;
oyce Hyde
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
31.
Use of an Automated Pilot Wafer Feedback System in a Research and Development Semiconductor Fab
机译:
自动化晶圆试验反馈系统在研发半导体工厂中的使用
作者:
Ali Nasiri-Shahraki
;
Edwin Cervantes
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
32.
SPC and YM monitoring of AEC/APC effectiveness
机译:
SPC和YM监视AEC / APC的有效性
作者:
Mike Clayton
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
33.
Etch Process Monitoring using Optical Emission Spectra of Process Plasma
机译:
使用过程等离子体的光发射光谱进行蚀刻过程监控
作者:
Junichi Tanaka
;
Akira Kagoshima
;
Daisuke Shiraishi
;
Hideyuki Yamamoto
;
Mtohiko Yoshigai
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
34.
Implementing e-manufacturing at STMicroelectronics PF1 Facility in Phoenix, Arizona
机译:
在亚利桑那州凤凰城的意法半导体PF1工厂实施电子制造
作者:
John W. Morgan
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
35.
Integration of a Plasma Impedance Sensor and multivariate analysis to factory systems foreffective monitor reduction and fault detection
机译:
等离子体阻抗传感器和多变量分析与工厂系统的集成,可有效减少监控器并检测故障
作者:
Paul Rudolph
;
LSI Logic
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
36.
Intel Automation framework based Architecture for Nanotechnology ProcessControl
机译:
基于英特尔自动化框架的纳米技术过程控制架构
作者:
Youssry Botros
;
Chandra Mouli
;
Kumud Srinivasan
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
37.
From SPC to APC at IMEC's Pilot Line: Modeling the Thermal Oxide Growth UsingMultiple Regression Analysis
机译:
在IMEC试点生产线从SPC到APC:使用多元回归分析对热氧化物的生长进行建模
作者:
Gabriela Catana
;
Kris De Backker
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
38.
Multi-parameter Model Based Advanced Process Control for Semiconductor Furnaces and Reactors
机译:
基于多参数模型的半导体炉和反应器高级过程控制
作者:
Sergey A. Velichko
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
39.
Advanced Etch-to-Depth Process Control Using Adaptive Interferometric Endpointand Endpoint/Host Parameter Exchange
机译:
使用自适应干涉式端点和端点/主机参数交换的高级蚀刻到深度过程控制
作者:
Lei Lian
;
Matthew Davis
;
Barbara Schmidt
;
Frank Hoffman
;
Frank Schurig
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
40.
Large Spot Reflectometry for CVD Process Control
机译:
用于CVD工艺控制的大光点反射仪
作者:
Mark Meloni
;
Jimmy Hosch
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
41.
CMP Film Thickness Control Solution for IBM 300 mm Fab
机译:
适用于IBM 300毫米晶圆厂的CMP膜厚控制解决方案
作者:
Jessica Li
;
Gary Behm
;
Adam Ticknor
;
Rajasekhar Venigalla
;
Tony Mullins
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
42.
Integrated, 'On-the-fly' film thickness measurement on moving product wafers, using large spot sizespectroscopic reflectometry
机译:
使用大光点尺寸光谱反射仪对移动的产品晶圆进行集成的“即时”薄膜厚度测量
作者:
Katya Gordon
;
Vladimir Rubinstein
;
Ayelet Dag
;
Ying Wang
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
43.
APC and Chamber Management Application for PECVD TEOS Deposition
机译:
APC和腔室管理在PECVD TEOS沉积中的应用
作者:
R. Butler
;
R. Kumar
;
P.J. Bhakta
;
A. Hernandez
;
Steve Corras
;
D. Spaugh
;
N. Tabet
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
44.
Application of Bias Voltage Control on an Inductively Coupled Plasma EtchSystem for Improved Chamber Matching and Advanced Process Control
机译:
偏置电压控制在电感耦合等离子体蚀刻系统上的应用,以改进腔室匹配和先进的过程控制
作者:
Cindy Petronis
;
Roger Patrick
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
45.
'Implementing and Assessing the Value of Factory-Wide FaultDetection Deployment at a High Volume Foundry'
机译:
“在大规模代工厂实现和评估工厂范围的故障检测部署的价值”
作者:
Todd Nowalk
;
Kevin Dimond
;
Mark Yelverton
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
46.
A Practical Approach to IntegratingFault Detection and Run by Run Control
机译:
通过运行控制将故障检测与运行集成在一起的实用方法
作者:
John C. Arnold
;
Daniel Boutin
;
Jose Martins
;
Jean DeCaunes
;
Joost van Herk
;
rnFrancois Pasqualini
;
Cecilia Bendix
;
Alain Deleporte
;
Jean-Claude Royer
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
47.
Analysis of a Wafer Overlay Projection Algorithm for usein Lot Disposition
机译:
用于批量处理的晶圆叠置投影算法的分析
作者:
Nicholas Louka
;
Frank Goodwin
;
Detlef Hofmann
;
Maik Adam
;
Torsten Werneke
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
48.
The Challenges of Implementing the 300mm SEMI Standards
机译:
实施300mm SEMI标准的挑战
作者:
Chris Winemiller
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
49.
SEMI Standards Support for Closed-Loop Control
机译:
SEMI标准支持闭环控制
作者:
Lance Rist
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
50.
Knowledge-Based Fault Detection and Classification
机译:
基于知识的故障检测与分类
作者:
John Scanlan
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
51.
Advanced Process Control Technology Evolution Requirements for 300mm Manufacturing
机译:
300mm制造的高级过程控制技术演进要求
作者:
Christopher A. Bode
;
Thomas J. Sonderman
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
52.
'Automation for the 300mm fab: A Strategy for Integrating FDC Using MultivariateAnalysis'
机译:
“ 300毫米晶圆厂的自动化:使用MultivariateAnalysis集成FDC的策略”
作者:
Chris Ambrozic
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
53.
APC Strategy for a starting 300mm RD Pilot Line: Crolles2
机译:
APC启动300mm R&D试验生产线的策略:Crolles2
作者:
Joost van Herk
;
Stephane Hubac
;
John Arnold
;
Daniel Boutin
;
rnJean de Caunes
;
Alain Deleporte
;
Cecila Bendix
;
Jean-Claude Royer
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
54.
AEC/APC Symposium 2003 - Abstract Submission
机译:
AEC / APC研讨会2003-摘要提交
作者:
Paul R. Buda
;
Alan F. Krauss
;
Schneider Electric
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
55.
Abstract by Peter Gilgunn, Infineon
机译:
英飞凌Peter Gilgunn的摘要
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
56.
Managing the Interaction of Preventive Maintenance and APC
机译:
管理预防性维护与APC的交互
作者:
Daniel Boutin
;
Jean DeCaunes
;
John C. Arnold
;
Joost van Herk
;
rnFrancois Pasqualini
;
Cecilia Bendix
;
Alain Deleporte
;
Jean-Claude Royer
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
57.
Enhanced Overlay and CD Control via Real-time Feedforward ofProcess Conditions and Tool States
机译:
通过过程条件和工具状态的实时前馈增强的叠加和CD控制
作者:
Manish Misra
;
David Crow
;
Etienne Joubert
;
Alan Carlson
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
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2003年
关键词:
process disturbances;
tool drifts;
preventive maintenance;
advanced process control;
overlay;
CD;
58.
IBM 300 mm Fab: Integration Overview of Factory-level MES / APC Systems witha Process Tool Containing Embedded Integrated Metrology and APC Wafer-to-Wafer Control
机译:
IBM 300 mm Fab:工厂级MES / APC系统与包含嵌入式集成计量和APC晶圆对晶圆控制的工艺工具的集成概述
作者:
Gary Behm
;
Wesley Natzle
;
Matthew Sendelbach
;
David Horak
;
Akihisa Sekiguchi
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
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2003年
59.
The Next Generation of Equipment Data Acquisition Management
机译:
下一代设备数据采集管理
作者:
James W. Martin
;
Dave Bloss
;
Xian Luo
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
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2003年
60.
Multi-Step Supervisory Control of Flash Memory Device Production Via aSimple First-Principles Model
机译:
通过简单的第一性原理模型对闪存设备生产进行多步监督控制
作者:
Christopher A. Harrison
;
Richard Good
;
Daniel Kadosh
;
S. Joe Qin
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
关键词:
supervisory control;
flash memory cell;
first-principles model;
multi-step process control;
61.
Model-Based Fault Detection and Metrology Error Rejection in Registration APC System
机译:
配准APC系统中基于模型的故障检测与计量错误排除
作者:
John Mao
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
62.
Effective Control of Reactive Sputtering Processes
机译:
有效控制反应溅射工艺
作者:
W. D. Sproul
;
D. J. Christie
;
D. C. Carter
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
63.
A Supervisory Control Methodology for Semiconductor Device Manufacturing
机译:
半导体器件制造的监督控制方法
作者:
Richard Good
;
S. Joe Qin
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
64.
An Evaluation of the Effects of Product Mix and Metrology Delay on thePerformance of Segregated versus Threaded EWMA Control
机译:
产品组合和计量延迟对隔离式和螺纹式EWMA控制性能的影响评估
作者:
Scott A. Harrison
;
Martin W. Braun
;
Thomas F. Edgar
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
|
2003年
关键词:
Run-to-Run Control;
EWMA;
Photolithography Overlay Control;
Metrology Delay;
65.
“Advancements and Trends in non-Semiconductor IndustrialAutomation Environments, and Their Impact on SemiconductorManufacturing”
机译:
“非半导体工业自动化环境的发展和趋势及其对半导体制造的影响”
作者:
James Moyne
;
John Korsakas
;
Dawn Tilbury
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
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2003年
66.
Strategy for Using Run to Run Control in a High Product Mix Environment
机译:
在高产品组合环境中使用运行到运行控制的策略
作者:
Stephen M Berger
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
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2003年
67.
REAL-TIME, IN-SITE METROLOGY TO DRIVE REAL-TIME APC
机译:
实时现场计量技术来驱动实时APC
作者:
Soon Cho
;
Gary W. Rubloff
;
Laurent Henn-Lecordier
;
Akhil Singhal
;
Yiheng Xu
;
Yijun Liu
;
John N. Kidder Jr
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
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2003年
关键词:
Advanced process control;
in-situ sensing;
metrology;
mass spectrometry;
acoustic sensor;
FTIR;
68.
FIRST PRINCIPLE-BASED STATE ESTIMATORFOR PHOTOLITHOGRAPHY CONTROL
机译:
光原理控制的第一种基于原理的状态估计器
作者:
Paul D. Friedberg
;
Costas Spanos
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
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2003年
关键词:
Lithography process control;
scatterometry;
lithography simulation;
PROLITH;
profile inversion;
69.
DIAGNOSTICS OF PLASMA ETCH: PCA WITHADAPTIVE CENTERING AND SCALING
机译:
等离子蚀刻诊断:具有自适应定点和缩放的PCA
作者:
Kevin A. Chamness
;
Thomas Edgar
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
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2003年
关键词:
Plasma Etch;
RIE;
Principal Component Analysis;
Adaptive Modeling;
70.
A Generic Object-Oriented System for Wafer-Level FDC
机译:
晶圆级FDC的通用面向对象系统
作者:
Gregory Cherry
;
Eric Green
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
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2003年
71.
An adaptive Interferometer Endpoint Algorithm for Compensationof Mask Thickness in Recess Etch Applications
机译:
凹版蚀刻应用中用于掩模厚度补偿的自适应干涉仪端点算法
作者:
Lei Lian
;
Matthew Davis
会议名称:
《AEC/APC symposium XV》
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2003年
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