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Method of characterization of layers dielectric by spectroscopy of photo - emission ultraviolet

机译:用紫外光谱表征介电层的方法。

摘要

The electron affinity of the dielectrics thick, with a thickness greater than 10 nm is measured by applying a bias voltage varying between - 4v and - 40v for example, and by taking a plurality of measuring points in order to determine a threshold reference value of photoemission (es) by proceeding by linear regression on a straight line (10) for connecting the thresholds measured (11) to the respective values of the square root of the voltage v.
机译:通过施加例如在-4v和-40v之间变化的偏置电压,并通过获取多个测量点以确定光发射的阈值参考值,来测量厚度大于10 nm的厚电介质的电子亲和力(es)通过在直线(10)上进行线性回归来进行,以将测得的阈值(11)连接到电压v的平方根的各个值。

著录项

  • 公开/公告号FR2936057B1

    专利类型

  • 公开/公告日2010-10-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 COMMISSARIAT A LENERGIE ATOMIQUE;

    申请/专利号FR20080056242

  • 发明设计人 CYRIL GUEDJ;EUGENIE MARTINEZ;

    申请日2008-09-17

  • 分类号G01N23/22;G01R31/26;

  • 国家 FR

  • 入库时间 2022-08-21 18:26:41

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