要解决的问题:提供一种用于确定每个边缘段的校正量的技术,同时考虑布局中其他边缘段的移动。
解决方案:该方法跟踪掩模版图中边缘段的集体移动如何改变版图中控制点处的抗蚀剂图像值,并同时确定版图中每个边缘段的校正量。代表掩模布局中每个边缘段运动的集体效应的多求解器矩阵用于同时确定掩模布局中每个边缘段的校正量。
版权:(C)2011,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP2011076119A
专利类型
公开/公告日2011-04-14
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML NETHERLANDS BV;
申请/专利号JP20110005775
申请日2011-01-14
分类号G03F1/08;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 18:22:44