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Environment friendly methods and systems for template cleaning and reclaiming in imprint lithography technology

机译:压印光刻技术中用于模板清洁和回收的环保方法和系统

摘要

Cleaning and reclaiming nano-imprint templates using environment friendly methods and systems is disclosed. A template may be cleaned by a combination of exposure to activated gaseous species followed by rinsing with oxygenated or hydrogenated DI water and exposure to reactive plasma to remove organic contaminant. Contaminant may be removed by forming a coating film of a water soluble polymer on the template and then peeling off the coating film. Organic residue from the film may be removed using oxygenated plasma.
机译:公开了使用环境友好的方法和系统清洁和回收纳米压印模板。可以通过以下方法清洁模板:接触活化的气体物质,然后用​​氧化或氢化的去离子水冲洗,再暴露于反应性等离子体中以除去有机污染物。可以通过在模板上形成水溶性聚合物涂膜来去除污染物,然后将其剥离。膜中的有机残留物可以使用氧化等离子体去除。

著录项

  • 公开/公告号US7846266B1

    专利类型

  • 公开/公告日2010-12-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TONY DIBIASE;

    申请/专利号US20060356879

  • 发明设计人 TONY DIBIASE;

    申请日2006-02-17

  • 分类号B08B7/04;B08B7/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 18:07:38

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