机译:荧光膜,成膜方法,多层介电膜,光学元件,光学系统,成像单元,用于测量光学特性的仪器,用于测量光学特性的方法,曝光装置,曝光方法和装置
公开/公告号KR20100125365A
专利类型
公开/公告日2010-11-30
原文格式PDF
申请/专利权人 NIKON CORPORATION;
申请/专利号KR20107021653
申请日2009-03-10
分类号C09K11/61;G01J1/02;G02B6/06;H01L21/027;
国家 KR
入库时间 2022-08-21 17:53:14