法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-09-30
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/027 授权公告日:20090722 终止日期:20140809 申请日:20050809
专利权的终止
2009-07-22
授权
授权
2007-09-12
实质审查的生效
实质审查的生效
2007-07-18
公开
公开
机译: 光学特性测量装置及方法,使用该光学特性测量装置的半导体曝光装置及曝光方法,以及半导体装置的制造方法
机译: 器件光学特性测量装置的制造方法,光学特性测量方法,曝光设备和曝光方法
机译: 光学特性测量方法和光学特性测量设备,光学特性调整方法,曝光设备,曝光方法和曝光设备制造方法