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机译:改善其结构的方法以及屏蔽沟槽的肖特基势垒整流器器件和半导体器件
公开/公告号JP2012518292A
专利类型
公开/公告日2012-08-09
原文格式PDF
申请/专利权人 フェアーチャイルド セミコンダクター コーポレイション;
申请/专利号JP20110551098
发明设计人 グレッブス、トーマス イー.;ベンジャミン、ジョン;プロブスト、ディーン イー.;ラインハイマー、マーク;ドルニー、ゲーリー;イェディナック、ジョセフ;
申请日2010-02-02
分类号H01L29/06;H01L29/872;H01L29/47;G03F1/68;G03F1/70;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 17:42:25
机译: -用于改善沟槽屏蔽半导体器件和肖特基势垒整流器器件的结构和方法
机译: 改善沟槽屏蔽半导体器件和肖特基势垒整流器器件的结构和方法