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Semiconductor device having double diffused MOS transistors with varied on/off threshold voltages, and method of manufacturing the same

机译:具有具有变化的开/关阈值电压的双扩散MOS晶体管的半导体器件及其制造方法

摘要

A semiconductor device where a plurality of DMOS transistors formed in a distributed manner on a semiconductor substrate can operate without being destroyed and a method of manufacturing the same. The on/off threshold voltage of a DMOS transistor at the innermost position from among three or more DMOS transistors formed in a distributed manner on a semiconductor is greater than the on/off threshold voltage of a DMOS transistor at the outermost position.
机译:可以在不破坏的情况下操作在半导体基板上以分布式方式形成的多个DMOS晶体管的半导体装置及其制造方法。在以分布方式形成在半导体上的三个或更多个DMOS晶体管中,位于最内部的DMOS晶体管的开/关阈值电压大于位于最外部的DMOS晶体管的开/关阈值电压。

著录项

  • 公开/公告号US8207579B2

    专利类型

  • 公开/公告日2012-06-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SHINOBU TAKEHIRO;

    申请/专利号US20100656137

  • 发明设计人 SHINOBU TAKEHIRO;

    申请日2010-01-19

  • 分类号H01L27/01;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 17:28:44

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