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Fully-depleted (FD)(SOI) MOSFET access transistor and method of fabrication

机译:全耗尽型(FD)(SOI)MOSFET存取晶体管及其制造方法

摘要

A fully-depleted (FD) Silicon-on-Insulator (SOI) MOSFET access transistor comprising a gate electrode of a conductivity type which is opposite the conductivity type of the source/drain regions and a method of fabrication are disclosed.
机译:本发明公开了一种完全耗尽型(FD)绝缘体上硅(SOI)MOSFET访问晶体管,其包括与源/漏区的导电类型相反的导电类型的栅极。

著录项

  • 公开/公告号US8148225B2

    专利类型

  • 公开/公告日2012-04-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HONGMEI WANG;JOHN K. ZAHURAK;

    申请/专利号US20090401555

  • 发明设计人 HONGMEI WANG;JOHN K. ZAHURAK;

    申请日2009-03-10

  • 分类号H01L21/336;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 17:26:45

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