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Phase change memory device having buried conduction lines directly underneath phase change memory cells and fabrication method thereof

机译:在相变存储单元正下方具有掩埋导线的相变存储器件及其制造方法

摘要

A phase change memory device having buried conduction lines directly underneath phase change memory cells is presented. The phase change memory device includes buried conduction lines buried in a semiconductor substrate and phase change memory cells arranged on top of the buried conductive lines. By having the buried conduction lines directly underneath the phase change memory cells, the resultant device can realize a considerable reduction in size.
机译:提出了一种在相变存储单元正下方具有掩埋导线的相变存储器件。相变存储器件包括掩埋在半导体衬底中的掩埋导线和布置在掩埋导线的顶部上的相变存储单元。通过使掩埋的导线直接位于相变存储单元下面,所得到的器件可以实现尺寸的显着减小。

著录项

  • 公开/公告号US8124970B2

    专利类型

  • 公开/公告日2012-02-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 KI HO YANG;

    申请/专利号US20090641561

  • 发明设计人 KI HO YANG;

    申请日2009-12-18

  • 分类号H01L29/00;H01L21/8234;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 17:26:43

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