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SEMICONDUCTOR MP WAFER PROCESS CAPABLE OF REDUCING TIME AND COSTS OF CHECKING AN IC DESIGN WINDOW

机译:具有减少IC设计窗口时间和成本的半导体MP晶片工艺

摘要

PURPOSE: A semiconductor MP wafer process is provided to reduce manufacturing costs and improve functional integration by connecting heterogeneous semiconductor process technology or mixed-mode IC design.;CONSTITUTION: An MP wafer(100) includes a plurality of MP chips(101). An MP mask set(400) includes a plurality of masks(4A,4B,4C,4D,4E,4F,4F') to form various device components with different levels. IC patterning information includes a semiconductor device source/drain forming pattern, a mutual connection forming pattern or a via hole forming pattern. A link process is a wire bonding process, a mutual connection unit bumping process or a silicon through electrode process.;COPYRIGHT KIPO 2012
机译:目的:提供一种半导体MP晶片工艺,通过连接异构半导体工艺技术或混合模式IC设计来降低制造成本并改善功能集成。组成:MP晶片(100)包括多个MP芯片(101)。 MP掩模组(400)包括多个掩模(4A,4B,4C,4D,4E,4F,4F'),以形成具有不同级别的各种设备组件。 IC图案化信息包括半导体器件源极/漏极形成图案,相互连接形成图案或通孔形成图案。链接工艺是引线键合工艺,相互连接单元的凸点工艺或通过电极的硅工艺。; COPYRIGHT KIPO 2012

著录项

  • 公开/公告号KR20120037872A

    专利类型

  • 公开/公告日2012-04-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 WENG DAH KEN;

    申请/专利号KR20110092901

  • 发明设计人 WENG DAH KEN;

    申请日2011-09-15

  • 分类号H01L21/00;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 17:10:13

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