首页> 外国专利> LOW RDSON RESISTANCE LDMOS

LOW RDSON RESISTANCE LDMOS

机译:低RDSON电阻LDMOS

摘要

A device having a salicide block spacer on a second side of a gate is disclosed. The use of the salicide block spacer indirectly reduces the blocking effects during the implantation processes, thereby lowering the Rdson without compromising the breakdown voltage of the device.
机译:公开了一种在栅极的第二侧上具有硅化物阻挡间隔物的器件。自对准硅化物阻挡隔离物的使用间接地降低了注入过程中的阻挡作用,从而降低了Rdson,而不会损害器件的击穿电压。

著录项

  • 公开/公告号US2013026565A1

    专利类型

  • 公开/公告日2013-01-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 PURAKH RAJ VERMA;GUOWEI ZHANG;

    申请/专利号US201113189573

  • 发明设计人 PURAKH RAJ VERMA;GUOWEI ZHANG;

    申请日2011-07-25

  • 分类号H01L29/78;H01L21/336;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 16:47:11

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号