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Structure and method for integrating front end SiCr resistors in HiK metal gate technologies

机译:HiK金属栅极技术中集成前端SiCr电阻器的结构和方法

摘要

An integrated circuit having a replacement HiK metal gate transistor and a front end SiCr resistor. The SiCr resistor replaces the conventional polysilicon resistor in front end processing and is integrated into the contact module. The first level of metal interconnect is located above the SiCr resistor. First contacts connect to source/drain regions. Second contacts electrically connect the first level of interconnect to either the SiCr resistor or the metal replacement gate.
机译:一种具有替换HiK金属栅极晶体管和前端SiCr电阻器的集成电路。 SiCr电阻器在前端处理中取代了常规的多晶硅电阻器,并集成到触点模块中。金属互连的第一层位于SiCr电阻器上方。第一触点连接到源极/漏极区域。第二触点将第一级互连电连接到SiCr电阻器或金属替换栅极。

著录项

  • 公开/公告号US8680618B2

    专利类型

  • 公开/公告日2014-03-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED;

    申请/专利号US201213654015

  • 发明设计人 EBENEZER ESHUN;

    申请日2012-10-17

  • 分类号H01L27/12;H01L49/02;H01L29/8605;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 16:01:17

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