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CHARGE-TRAP NOR WITH SILICON-RICH NITRIDE AS A CHARGE TRAP LAYER

机译:电荷陷阱或不带富硅氮化物的电荷陷阱层

摘要

A charge-trapping NOR (CT-NOR) memory device and methods of fabricating a CT- NOR memory device utilizing silicon-rich nitride (SiRN) in a charge-trapping (CT) layer of the CT-NOR memory device.
机译:电荷俘获NOR(CT-NOR)存储设备以及利用CT-NOR存储设备的电荷俘获(CT)层中的富硅氮化物(SiRN)来制造CT-NOR存储设备的方法。

著录项

  • 公开/公告号WO2014176246A1

    专利类型

  • 公开/公告日2014-10-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SPANSION LLC;

    申请/专利号WO2014US34967

  • 发明设计人 FANG SHENQING;

    申请日2014-04-22

  • 分类号H01L29/792;H01L21/8247;H01L27/115;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-21 15:46:14

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