首页> 外国专利> Gate leakage of GaN HEMTs and GaN diodes

Gate leakage of GaN HEMTs and GaN diodes

机译:GaN HEMT和GaN二极管的栅极泄漏

摘要

A GaN heterojunction device (and method) has a region at the gate edge processed differently to provide a region which enables a reduction in leakage currents.
机译:GaN异质结器件(和方法)具有在栅极边缘处的区域,该区域被不同地处理以提供使得能够减小泄漏电流的区域。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号