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silver ion diffusion suppression layer forming composition, silver ion diffusion barrier layer for the film, wiring board, electronic equipment , conductive film laminate, and the touch panel

机译:银离子扩散抑制层形成用组合物,用于膜的银离子扩散阻挡层,布线板,电子设备,导电膜层压体和触摸面板

摘要

A composition for forming a silver ion diffusion-suppressing layer includes an insulating resin and a compound including: a structure selected from the group consisting of a triazole structure, a thiadiazole structure and a benzimidazole structure; a mercapto group; and at least one hydrocarbon group optionally containing a heteroatom, with the total number of carbon atoms in the hydrocarbon group or groups being 5 or more. The composition for forming a silver ion diffusion-suppressing layer allows formation of a silver ion diffusion-suppressing layer capable of suppressing silver ion migration between metal interconnects containing silver or a silver alloy to improve the reliability on the insulation between the metal interconnects.
机译:用于形成银离子扩散抑制层的组合物包括绝缘树脂和化合物,该化合物包括:三唑结构,噻二唑结构和苯并咪唑结构;巯基至少一个含有杂原子的烃基,该烃基中的碳原子总数为5以上。用于形成银离子扩散抑制层的组合物允许形成银离子扩散抑制层,该层能够抑制含银的金属互连或银合金之间的银离子迁移,从而提高金属互连之间的绝缘可靠性。

著录项

  • 公开/公告号JP5775494B2

    专利类型

  • 公开/公告日2015-09-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 富士フイルム株式会社;

    申请/专利号JP20120167157

  • 申请日2012-07-27

  • 分类号C09J133/04;H01B5/14;C08K5/46;C08K5/37;B32B27/00;B32B15/08;H05K3/28;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 15:29:31

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