Department of Materials Science and Engineering, University of Maryland, College Park, MD 20742, USA;
Department of Materials Science and Engineering, University of Maryland, College Park, MD 20742, USA;
The Walters Art Museum, 600 N. Charles Street, Baltimore, MD 21201, USA;
The Walters Art Museum, 600 N. Charles Street, Baltimore, MD 21201, USA;
Department of Materials Science and Engineering, University of Maryland, College Park, MD 20742, USA;
Department of Materials Science and Engineering, University of Maryland, College Park, MD 20742, USA;
机译:二甘醇和三甲基铝前体在分子层沉积的Alucone膜上的生长行为和稳定性的研究,以及原子层沉积的Al2O3封端增强扩散阻挡性能的研究
机译:二甘醇和三甲基铝前体在分子层沉积的Alucone膜上的生长行为和稳定性的研究,以及原子层沉积的Al2O3封端增强扩散阻挡性能的研究
机译:界面层对作为新型Cu扩散阻挡层的原子层沉积Ir薄膜生长行为的影响
机译:原子层沉积薄膜的表征作为银艺术物体的扩散屏障
机译:用于银和铜合金文化遗产物体的新型保护涂层,使用原子层沉积的金属氧化物阻挡膜制成。
机译:使用Al2O3势垒层控制原子层沉积的Al2O3 / La2O3 / Al2O3栅堆叠中的硅扩散控制
机译:用原子层沉积的腐蚀屏障保护银文化遗产