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Self-rectifying RRAM cell structure and 3D crossbar array architecture thereof

机译:自校正RRAM单元结构及其3D交叉开关阵列结构

摘要

The present disclosure provides a self-rectifying RRAM, including: a first electrode layer formed of a first metal element; a second electrode layer formed of a second metal element different from the first metal element; and a first resistive-switching layer and a second resistive-switching layer sandwiched between the first electrode layer and the second electrode layer, wherein the first resistive-switching layer and the second switching layer form an ohmic contact, and the first resistive-switching layer has a first bandgap lower than a second bandgap of the second resistive-switching layer. Furthermore, an RRAM 3D crossbar array architecture is also provided.
机译:本公开提供了一种自整流RRAM,包括:由第一金属元素形成的第一电极层;以及由第一金属层形成的第一电极层。第二电极层由不同于第一金属元素的第二金属元素形成;夹在第一电极层和第二电极层之间的第一电阻开关层和第二电阻开关层,其中第一电阻开关层和第二开关层形成欧姆接触,以及第一电阻开关层具有比第二电阻开关层的第二带隙低的第一带隙。此外,还提供了RRAM 3D交叉开关阵列架构。

著录项

  • 公开/公告号US9059391B2

    专利类型

  • 公开/公告日2015-06-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 WINBOND ELECTRONICS CORP.;

    申请/专利号US201314025299

  • 发明设计人 TUO-HUNG HOU;CHUNG-WEI HSU;I-TING WANG;

    申请日2013-09-12

  • 分类号H01L29/02;H01L45;H01L27/24;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 15:20:51

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