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GRAPHENE BENDING TRANSISTOR COMPRISING GRAPHENE MANUFACTURING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF GRAPHENE WITH ETCHED GRAPHENE ATOMIC LAYER, AND WAFER COMBINATION METHOD, AND GRAPHENE BENDING TRANSISTOR

机译:包括石墨烯制造方法的石墨烯弯曲晶体管,带有蚀刻的石墨烯原子层的石墨烯的制造方法,晶片结合法以及石墨烯弯曲晶体管

摘要

The present invention is a manufacturing method of a transistor for adjusting one or more work functions using graphene comprising an entirely or partially selected gelation method to select one or more thing among one or more bending modifications and position movements.;COPYRIGHT KIPO 2016
机译:本发明是一种用于使用石墨烯来调节一个或多个功函数的晶体管的制造方法,包括完全或部分选择的胶凝方法,以在一个或多个弯曲变形和位置运动中选择一个或多个事物。COPYRIGHTKIPO 2016

著录项

  • 公开/公告号KR20150121682A

    专利类型

  • 公开/公告日2015-10-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 LEE YOUN TEK;

    申请/专利号KR20150095626

  • 发明设计人 LEE YOUN TEKKR;

    申请日2015-07-05

  • 分类号H01L41/22;H01L41/08;H01L41/187;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 14:58:58

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