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SEMICONDUCTOR MULTI-PROJECT OR MULTI-PRODUCT WAFER PROCESS

机译:半导体多项目或多产品晶圆工艺

摘要

The embodiment provides a semiconductor MP wafer process including processing a plurality of MP wafers in a lot or batch with a first process step. The plurality of the MP wafers is split into an MP wafer group-1 and an MP wafer group-2. At least one of the MP wafers of the MP wafer group-1 is processed with a second process step-1 and at least one of the MP wafers of the MP wafer group-2 is processed with a second process step-2 to form different device components on the MP wafers of the MP wafer group-1 and group-2, respectively. At least one of the MP wafers of the MP wafer group-1 is processed with a third process step-3 and at least one of the MP wafers of the MP wafer group-2 is processed with a third process step-4 to form a substantially same characteristic device component on the MP wafers.
机译:实施例提供了一种半导体MP晶片工艺,其包括在第一工艺步骤中批量或批量处理多个MP晶片。多个MP晶片被分成MP晶片组- 1 和MP晶片组- 2 。 MP晶片组- 1 的至少一个MP晶片通过第二工序- 1 进行处理,MP晶片组的MP晶片中的至少一个- 2 用第二个处理步骤- 2 处理,以在MP晶圆组- 1 和组的MP晶圆上形成不同的器件组件- 2 。通过第三工艺步骤- 3 处理MP晶片组- 1 中的至少一个MP晶片,以及MP晶片组中的MP晶片中的至少一个- 2 通过第三处理步骤- 4 进行处理,以在MP晶片上形成基本相同的特征器件组件。

著录项

  • 公开/公告号US2016043065A1

    专利类型

  • 公开/公告日2016-02-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 WENG-DAH KEN;

    申请/专利号US201514824095

  • 发明设计人 WENG-DAH KEN;

    申请日2015-08-12

  • 分类号H01L25/00;H01L21/768;H01L21/263;H01L21/66;H01L23/00;H01L23/544;H01L21/304;H01L21/78;H01L21/283;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 14:37:36

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