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BUMP STRUCTURE ON SEMICONDUCTOR CONNECTION PADS AND METHOD OF FORMING THE SAME

机译:半导体连接板上的缓冲结构及其形成方法

摘要

The disclosed is a bump structure on a semiconductor connection pad and a forming method thereof. According to an aspect of the present invention, the method for forming the bump structure on a semiconductor connection pad formed on a semiconductor wafer includes: a step (a) of forming a first photoresist layer around the semiconductor connection pad on the semiconductor wafer; a step (b) of forming a bonding wire on the semiconductor connection pad; a step (c) of receiving the bonding wire as a seed and plating the metal filler in a first groove formed on the first photoresist layer; a step (d) of forming a second photoresist layer on the top of the first photoresist layer; a step (e) of plating solder in a second groove formed on the second photoresist layer; and a step (f) of removing the first and second photoresist layers.
机译:公开了一种半导体连接焊盘上的凸块结构及其形成方法。根据本发明的一个方面,在形成于半导体晶片上的半导体连接垫上形成凸块结构的方法包括:步骤(a),在半导体晶片上的半导体连接垫周围形成第一光刻胶层;步骤(b),在半导体连接垫上形成键合线;步骤(c),接收键合线作为种子,并在形成于第一光致抗蚀剂层上的第一凹槽中电镀金属填料;步骤(d),在第一光刻胶层的顶部形成第二光刻胶层; (e)在第二光致抗蚀剂层上形成的第二凹槽中镀焊料的步骤;步骤(f),去除第一和第二光刻胶层。

著录项

  • 公开/公告号KR101629273B1

    专利类型

  • 公开/公告日2016-06-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SFA SEMICON CO. LTD.;

    申请/专利号KR20140188448

  • 发明设计人 HONG SUNG MIN;

    申请日2014-12-24

  • 分类号H01L21/60;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 14:12:24

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