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Method of fabricating a uniformly aligned planar array of nanowires using atomic layer deposition

机译:使用原子层沉积制造均匀排列的纳米线平面阵列的方法

摘要

Invention for producing an orderly aligned horizontally planar array of nanowires comprising:;step 1) providing a template for producing nanowires in which the template comprises an alternating multilayer stack of substrate and inert insulating thin film layers; and;step 2) fabricating an orderly aligned, horizontally planar array of nanowires by depositing atoms and/or molecules along the outer edges of the thin film substrate layers on at least one side of the template with the use of atomic layer deposition.
机译:用于生产纳米线的有序排列的水平平面阵列的发明,包括:步骤1)提供用于生产纳米线的模板,其中该模板包括衬底和惰性绝缘薄膜层的交替多层堆叠;步骤2)通过使用原子层沉积在模板的至少一侧上沿着薄膜衬底层的外边缘沉积原子和/或分子来制造有序排列的,水平排列的纳米线阵列。

著录项

  • 公开/公告号US9702059B2

    专利类型

  • 公开/公告日2017-07-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 STEVEN HOWARD SNYDER;

    申请/专利号US201414479760

  • 发明设计人 STEVEN HOWARD SNYDER;

    申请日2014-09-08

  • 分类号C23C16/00;C30B25/04;C30B25/18;C30B29/60;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 13:47:18

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