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Monomer, hard mask composition comprising said monomer, and method for forming pattern using said hard mask composition

机译：单体，包含所述单体的硬掩模组合物以及使用所述硬掩模组合物形成图案的方法

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摘要

Disclosed are a monomer for a hardmask composition represented by the Chemical Formula 1, a hardmask composition including the monomer, and a method of forming a pattern using the same.

机译：公开了由化学式1表示的用于硬掩模组合物的单体，包括该单体的硬掩模组合物以及使用该单体形成图案的方法。

著录项

公开/公告号US9513546B2

专利类型
公开/公告日2016-12-06

原文格式PDF
申请/专利权人 CHEIL INDUSTRIES INC.;
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申请/专利号US201314441294
发明设计人 YOU-JUNG PARK;YO-CHOUL PARK;YONG-WOON YOON;SUNG-JAE LEE;CHUL-HO LEE;YOUN-JIN CHO;HEA-JUNG KIM;
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申请日2013-03-19
分类号G03F7/027;G03F7/16;G03F7/11;G03F7/30;G03F7/36;G03F7/09;C07C49/83;C07C49/798;C07C49/788;C07C49/796;C07C49/835;C07C49/792;
国家 US
入库时间 2022-08-21 13:41:07

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