Development of a facile block copolymer method for creating hard mask patterns integrated into semiconductor manufacturing

著录项

• 来源
  《纳米研究：英文版》 |2016年第10期|P.3116-3128|共13页
• 作者

  Tandra Ghoshal12; Matthew T. Shaw3; Justin D. Holmes12; Michael A. Morris24;

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• 作者单位

  [1]Department of Chemistry and Tyndall National Institute, University College Cork, Cork, Ireland;

  [2]AMBER, Centre for Research on Adaptive Nanostructures and Nanodevices （CRANN）, Trinity College Dublin, Dublin, Ireland;

  [3]Intel Ireland Ltd., Collinstown Industrial Estate, Co. Kildare, Ireland;

  [4]School of Chemistry, Trinity College Dublin, Dublin, Ireland;

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• 收录信息 中国科学引文数据库(CSCD);
• 原文格式 PDF
• 正文语种 CHI
• 中图分类 半导体器件制造工艺及设备;
• 关键词

  半导体制造; 嵌段共聚物; 掩模; 开发; 硅纳米线阵列; 无机氧化物; 透射电子显微镜; 金属离子;

  机译：半导体制造;嵌段共聚物;掩模;开发;硅纳米线阵列;无机氧化物;透射电子显微镜;金属离子;