机译:集成电路和在集成电路块中形成场效应晶体管的方法
公开/公告号KR20170021184A
专利类型
公开/公告日2017-02-27
原文格式PDF
申请/专利权人 SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD.;
申请/专利号KR20150171798
申请日2015-12-03
分类号H01L29/772;H01L27/02;H01L29/06;H01L29/417;H01L29/423;H01L29/78;
国家 KR
入库时间 2022-08-21 13:28:03