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NON-CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION NON-CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST FILM PATTERN FORMATION METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE

机译:非化学放大的抗蚀剂组成非化学放大的抗蚀剂图案形成方法及电子设备的制造方法

摘要

A non-chemically amplified resist composition excellent in resolution in an isolated line pattern or an isolated space pattern, a non-chemically amplified resist film using the same, a pattern forming method, and a manufacturing method of an electronic device. The non-chemically amplified resist composition contains a resin (Ab) having a metal salt structure.
机译:隔离线图案或隔离空间图案的分辨率优异的非化学放大型抗蚀剂组合物,使用其的非化学放大型抗蚀剂膜,图案形成方法以及电子设备的制造方法。非化学放大型抗蚀剂组合物包含具有金属盐结构的树脂(Ab)。

著录项

  • 公开/公告号KR20170039224A

    专利类型

  • 公开/公告日2017-04-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 후지필름 가부시키가이샤;

    申请/专利号KR20177005172

  • 发明设计人 히라노 슈지;

    申请日2015-08-19

  • 分类号G03F7/038;G03F7/039;G03F7/20;G03F7/26;G03F7/32;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 13:27:44

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