机译:掺有重金属的氦离子活性混合非化学增强型抗蚀剂:纳米图案,线条边缘粗糙度低
机译:掺有重金属的氦离子活性混合非化学增强型抗蚀剂:纳米图案,线条边缘粗糙度低
机译:用掩模氦离子束光刻研究化学放大抗蚀剂材料的线边缘粗糙度
机译:新型HFO2杂交非化学放大抗蚀剂的设计,开发,EUVL应用和纳米力学性能
机译:氦离子活性混合非化学放大抗蚀剂(n-CAR),用于低于10 nm的图案化应用
机译:探索基于溶出抑制剂的非化学放大抗蚀剂,用于193 nm光刻。
机译:通过使用非化学放大的抗蚀剂和曝光后烘烤来制造具有改善的线边缘粗糙度的高分辨率掩模
机译:重金属结合的氦离子活性杂化非化学增强抗蚀剂:具有低线边缘粗糙度的纳米图案