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Method and apparatus for improving read margin for an SRAM bit-cell

机译:用于提高SRAM位单元的读取容限的方法和装置

摘要

Described is a 6T SRAM cell which comprises: a first n-type transistor with a gate terminal coupled to word-line, source/drain terminal coupled to a first bit-line and drain/source terminal coupled to a first node; and a second n-type transistor with a source terminal coupled to a first supply node, a drain terminal coupled to the first node, and a gate terminal for coupling to multiple terminals, wherein the gate terminal includes a capacitor to increase coupling capacitance of the second n-type transistor. Described is a method which comprises: forming a metal gate in a first direction; forming a first spacer in the first direction on one side of the metal gate, the first spacer having a first dimension; and forming a second spacer in the first direction on another side of the metal gate, the second spacer having a second dimension which is substantially different from the first dimension.
机译:描述了一种6T SRAM单元,其包括:第一n型晶体管,其栅极端子耦合至字线,源极/漏极端子耦合至第一位线,并且漏极/源极端子耦合至第一节点;第二n型晶体管,其源极端子耦合到第一供应节点,漏极端子耦合到第一节点,并且栅极端子耦合到多个端子,其中,栅极端子包括电容器,以增加晶体管的耦合电容。第二个n型晶体管。描述了一种方法,该方法包括:在第一方向上形成金属栅极;以及在第一方向上形成金属栅极。在金属栅极的一侧上沿第一方向形成第一间隔物,该第一间隔物具有第一尺寸;在金属栅极的另一侧沿第一方向形成第二隔离物,该第二隔离物具有与第一尺寸基本不同的第二尺寸。

著录项

  • 公开/公告号US9953986B2

    专利类型

  • 公开/公告日2018-04-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INTEL CORPORATION;

    申请/专利号US201314137879

  • 发明设计人 YIH WANG;

    申请日2013-12-20

  • 分类号H01L21/70;H01L27/11;G11C11/419;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 12:57:40

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