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Power semiconductor device including trench gate structures with longitudinal axes tilted to a main crystal direction

机译:包括沟槽栅极结构的功率半导体器件,该沟槽栅极结构的纵轴向主晶体方向倾斜

摘要

A semiconductor device includes a semiconductor body with a first main crystal direction parallel to a horizontal plane. Longitudinal axes of trench gate structures are tilted to the first main crystal direction by a tilt angle of at least 2 degree and at most 30 degree in the horizontal plane. Mesa portions are between neighboring trench gate structures. First sidewall sections of first mesa sidewalls are main crystal planes parallel to the first main crystal direction. Second sidewall sections tilted to the first sidewall sections connect the first sidewall sections.
机译:半导体器件包括具有第一主晶体方向平行于水平面的半导体本体。沟槽栅极结构的纵轴在水平面中向第一主晶体方向倾斜至少2度且至多30度的倾斜角。台面部分在相邻的沟槽栅极结构之间。第一台面侧壁的第一侧壁部分是平行于第一主晶体方向的主晶体平面。倾斜到第一侧壁部分的第二侧壁部分连接第一侧壁部分。

著录项

  • 公开/公告号US9818818B2

    专利类型

  • 公开/公告日2017-11-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INFINEON TECHNOLOGIES AG;

    申请/专利号US201615057669

  • 发明设计人 ROLAND RUPP;ROMAIN ESTEVE;DETHARD PETERS;

    申请日2016-03-01

  • 分类号H01L29/04;H01L29/423;H01L29/739;H01L29/66;H01L29/861;H01L29/16;H01L29/78;H01L21/02;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 12:56:44

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