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METAL MASK SUBSTRATE METAL MASK SUBSTRATE CONTROL METHOD METAL MASK AND METAL MASK PRODUCTION METHOD

机译：金属掩膜基质金属掩膜基质控制方法金属掩膜及金属掩膜的制造方法

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摘要

The metal mask base material has a metal surface on which a resist is arranged and has a reflectance of 45.2% or more in regular reflection of light incident on the surface.

机译：金属掩模基材具有在其上布置有抗蚀剂的金属表面，并且在入射到该表面上的光的正反射中具有45.2％以上的反射率。

著录项

公开/公告号KR20180020973A

专利类型
公开/公告日2018-02-28

原文格式PDF
申请/专利权人 도판 인사츠 가부시키가이샤;
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申请/专利号KR20177035822
发明设计人 다무라 스미카;미카미 나오코;후지토 다이세이;니시츠지 기요아키;니시 다케히로;
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申请日2016-03-22
分类号H01L51/56;C23C14/04;H01L21/033;H01L51;
国家 KR
入库时间 2022-08-21 12:40:47

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