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Method of fabrication of a non-planar transistor

机译:非平面晶体管的制造方法

摘要

The present description relates to the formation source/drain structures within non-planar transistors, wherein fin spacers are removed from the non-planar transistors in order to form the source/drain structures from the non-planar transistor fins or to replace the non-planar transistor fins with appropriate materials to form the source/drain structures.
机译:本说明书涉及非平面晶体管内的形成源极/漏极结构,其中从非平面晶体管中去除鳍间隔物,以便由非平面晶体管鳍形成源极/漏极结构或替换非平面晶体管鳍。平面晶体管鳍用适当的材料形成源/漏结构。

著录项

  • 公开/公告号EP2761647B1

    专利类型

  • 公开/公告日2020-09-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INTEL CORPORATION;

    申请/专利号EP20110872969

  • 发明设计人 JOSHI SUBHASH M.;HATTENDORF MICHAEL;

    申请日2011-09-30

  • 分类号H01L21/336;H01L29/78;H01L29/66;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 11:42:40

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